해성디에스(195870) 신규시설투자등 📌 내용 투자내용 : 반도체 Substrate 제조용 기계장치 등 투자목적 : 신규 생산방식인 Panel 공법 도입을 통한 중장기 성장 기반 마련 및 제조 경쟁력 확보 📌 규모 투자금액 : 1,900 억원 자본대비 : 33.67 % 시총대비 : 19.37 % 📌 일정 (약 4년 4개월) 시작일 : 2026-09-18 종료일 : 2030-12-31 ※ 시총 : 9,809 억원 ※ 현재가 : 57,700 원 ※ 2026-09-18 16:40:20 [공시 원문 보기](